真空镀膜工厂真空电镀工艺参数 东莞泰坦金属制品

请问PVD镀膜的具体原理是什么？离子镀膜(PVD镀膜)技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。

真空镀膜

1.通过真空镀膜获得的金属膜层非常薄（通常为0.01?0.1um），可以严格啤酒表面的形状。

2.工作电压不是很高（200V），操作方便，但设备较昂贵。

3.蒸发锅体积小，电镀件数量少，生产效率低。

4.比较适合于熔点比钨丝低的金属镀层（例如铝，银，铜，金等）。

真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法抉择着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所构成的。开始电镀时，基体材料外表主要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。

真空镀膜工艺技术的不断发展，也推动了真空镀膜设备的不断更新，真可谓是一代工艺、一代设备，而各类新的真空镀膜设备的出现，又为***、复杂的工艺应用于工业化生产提供了可靠的保证。真空镀膜工厂

PVD真空镀膜具有的附着力和耐久力 – 可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。其它的技术，包括电镀，喷涂等都不能与其相比。任何能够想象出的设计图案都可以蚀刻出来/在内装修或者室外装修都可以使用，、抗腐蚀能力强。