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干法电镀：

干法电镀包括真空电镀、气相电镀（气相沉积），以及使用熔融金属进行的熔融电镀。

真空电镀（真空电镀）：

真空电镀是一种在高真空中加热和蒸发金属或化合物的方法，通过将蒸发的原子或分子应用于要电镀的物体，在表面上形成金属或化合物的薄膜。在这里，薄膜是指厚度小于1μ的薄膜。

工业应用包括装饰、包装纸等，玻璃真空电镀厂家，将铝沉积在金属光泽上，作为电气应用，玻璃真空电镀加工，用于电阻和电容器。

从这一原理图中不难看出，真空电镀工艺过程是由膜材在蒸发源表面上的蒸发、蒸发后的粒子（主要是原子）在气相中的迁移、到达基片表面上通过吸附作用在基片表面上凝结生成薄膜等三个过程所组成。这种工艺过程创造一个良好成膜条件是十分必要的。玻璃真空电镀

真空电镀工艺主要是通过加热器把膜材蒸发、蒸发的膜材原子或分子迁移吸附到基体表面的成膜工艺，因此根据膜材的种类不同大体可分为金属膜的真空电镀、合金膜的真空电镀及化合物的真空电镀这三大类。

PVD真空电镀前工件的预处理，杨和玻璃真空电镀，应根据工件的材料、表面条件和表面处理要求进行预处理。比如，去除油污、锈蚀或水垢，清洁表面，确保涂层与基材表面具有良好的结合力； 还必须进行机械抛光、电化学抛光、喷砂处理，以改善工件的表面状况，确保金属涂层满足亮度和粗糙度的质量要求。PVD真空电镀的电镀前处理是电镀过程中的重要环节之一。玻璃真空电镀