真空镀膜加工厂的行业须知 泰坦金属制品有限公司

PVD镀膜工艺原理及应用有哪些？真空镀膜技术中常用的方法有蒸发镀膜（包括电弧相应的化学气相沉积（CVD）称为CVD技术。该行业俗称“IP”（离子镀）离子镀层，因为在PVD技术中，各种气体离子和金属离子参与成膜过程并发挥着重要作用，为了强调离子的作用，统称为离子镀膜。以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。

真空镀膜技术相关问题解答：请问什么是PVD？PVD是英文Physical Vapor Deposition的缩写，中文意思是“物理气相沉积”，是指在真空条件下，用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。

离子镀：蒸发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面，称为离子镀。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。一种离子镀系统，将基片台作为阴极，外壳作阳极，充入惰性气体以产生辉光放电。PVD镀膜主要应用在一些比较好的五金制品上，对那些价格较低的五金制品通常也只是进行化学电镀而不做PVD镀膜。从蒸发源蒸发的分子通过等离子区时发生电离。

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。真空镀膜加工厂

PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。

镀膜主要是为了减少反射。为了提高镜头的透光率和影像的质量，在现代镜头制造工艺上都要对镜头进行镀膜。镜头的镀膜是根据光学的干涉原理，在镜头表面镀上一层厚度为四分之一波长的物质(通常为氟化物)，使镜头对这一波长的色光的反射降至低。