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发布时间:2021-09-29 04:39:00 作者:泰坦金属





PVD镀膜可以镀出以下几种膜层
聚涂层技术是一种环保的表面处理方法,可以真正获得微米级涂层,无污染。它可以制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等。)、氮化物膜(TiN[钛]、ZrN[锆金]、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO)。
PVD镀膜层的厚度
聚涂层的厚度为微米级,较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰涂层的厚度一般为0.1μm~1μm,可以在几乎不影响工件原有尺寸的情况下提高工件表面的各种物理化学性能,保持工件尺寸基本不变,镀后无需再加工。
PVD真空镀膜特性
1、附着力极强,可折折折90度以上而不开裂或剥落(PVD镀层具有高附着力和耐久性)。其他工艺,包括电镀,喷涂是无法与之相比的。
2、任何可供想象的图案都可以蚀刻出来。
3、可用于装修或用于户外。
4、减压涂层,,防腐。耐蚀性好,化学性能稳定,抗酸性好。移动电话PVD镀膜抗性。
5、涂料外壳易于去除油漆和指纹。
6、强光下,盐渍化的湿地和城市环境,都不会失去光泽,不会氧化,不会褪色,不会脱落,不会。高耐磨性,耐刮擦性,不易刮伤。可镀性材料广泛,与基体的结合力很强。
PVD真空镀膜技术知识问答:什么是PVD?真空电镀加工真空镀膜技术。PVD是英文的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。请问PVD镀膜的具体原理是什么?离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。
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