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洪梅金属真空镀膜工艺流程「泰坦金属」

发布时间:2021-08-19 03:29:00        作者:泰坦金属







PVD镀膜可以镀出以下几种膜层

  聚涂层技术是一种环保的表面处理方法,可以真正获得微米级涂层,无污染。它可以制备各种单一金属膜(如铝、钛、锆、铬等。)、氮化物膜(TiN[钛]、ZrN[锆金]、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN)和氧化物膜(如TiO)。



PVD镀膜层的厚度

  聚涂层的厚度为微米级,较薄,一般为0.1μm~5μm,其中装饰涂层的厚度一般为0.1μm~1μm,可以在几乎不影响工件原有尺寸的情况下提高工件表面的各种物理化学性能,保持工件尺寸基本不变,镀后无需再加工。



 PVD镀膜技术的应用主要分为两大类:装饰镀和工具镀。装饰镀的目的主要是为了改善工件的外观装饰性能和色泽同时使工件更耐磨耐腐蚀延长其使用寿命;这方面主要应用五金行业的各个领域,如门窗五金、锁具、卫浴五金等行业。工具镀的目的主要是为了提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系数,提高工件的使用寿命;这方面主要应用在各种刀剪、车削刀具(如车刀、刨刀、铣刀、钻头等等)等产品中。




辨别一家好的真空镀膜加工厂,可以大概从如下五个方面加以衡量:车间环境:是否具有三级净化供风系统,是否真的无尘车间,人员进出及货物进出是否严格管制走风淋门,风淋门是否能正常工作、车间地板、墙壁、天花、货架上是否洁净无灰尘,现场5S是否整洁;人员穿着:所有人员进出车间是否穿着防静电无尘衣帽、静电无尘鞋;





PVD真空镀膜技术知识问答:什么是PVD?真空电镀加工真空镀膜技术。PVD是英文的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。请问PVD镀膜的具体原理是什么?离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。



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