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真空镀膜技术被誉为发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、***等领域。

真空镀膜的优点

中文名:氮化钛;

颜色:金色;

硬度:2300HV;

摩擦系数:0.23VSNi;

工作温度:580℃;

优点:增加表面硬度、减少摩擦力;可低温涂层，适合低温零件;避免刀口之积屑现象;广泛应用於钢料成型加工。

众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。

真空镀膜则是相对于上述的湿式镀膜方法而发展起来的一种新型镀膜技术，通常称为干式镀膜技术。

PVD镀膜加工工艺流程比较长、工序繁多，发生故障的影响因素会很多。如PVD镀膜前处理不净、清洗不良、电解液成分失调及杂质污染、生产环境不良等。PVD镀膜而故障的原因往往存在于以上各影响因素的一两个细节之中。

真空电镀设备为更好的进行测试、测定室内温度，真空电镀设备使用测温仪器和控温仪器，避免温度过高或不达标真空电镀设备，抽气系统由各种真空泵及附件按其各自功能组装使用。

真空镀膜和光学镀膜区别

1、真空镀膜：一般TiN,CrN，TiC，ZrN，电镀出来的厚度大概是3~5微米。一般情况真空镀膜的厚度是在设备上测试不出来了;

2、光学镀膜的膜厚测试可以在镀膜机的中间顶上装置膜厚测试仪即可。

早的是光控测试，现在一般用晶控(晶振片)使用的是晶振片震动的频率来测试镀膜的厚度。不同膜层的厚度不同。

光学镀膜

无论是无机材料还是有机材料制成的眼镜片，在日常的使用中，由于与灰尘或砂砾(氧化硅)的摩擦都会造成镜片磨损，在镜片表面产生划痕。与玻璃片相比，有机材料制成的硬性度比较低，更易产生划痕。通过显微镜，我们可以观察到镜片表面的划痕主要分为二种，一是由于砂砾产生的划痕，浅而细小，戴镜者不容易察觉;另一种是由较大砂砾产生的划痕，深且周边粗糙，处于中心区域则会影响视力。