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真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜，从而使固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的***性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为发展前途的重要技术之一，并已在高技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。这种新兴的真空镀膜技术已在国民经济各个领域得到应用，如航空、航天、电子、信息、机械、石油、化工、环保、***等领域。

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

真空镀膜的物理过程

PVD（物理气相沉积技术）的基本原理可分为三个工艺步骤：

（1）镀料的气化：即镀料的蒸发、升华或被溅射从而形成气化源

（2）镀料粒子（（原子、分子或离子）的迁移：由气化源供出原子、分子或离子经过碰撞，产生多种反应。

（3）镀料粒子在基片表面的沉积

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。

真空电镀是利用的什麽原理?

在高真空度的条件下，高纯度的镀层金属（如铝）在高温下蒸发后会自由地飞散开并沉降在工件表面，形成镀层。气为保护性气体，防止氧化反应影响镀层质量。

pvd真空电镀具有沉积速度快和表面清洁的特点，特别具有膜层附着力强、绕性好、可镀材料广泛等优点。 采用******的磁控溅射离子镀膜和多弧离子镀膜工艺设备，及在此基础之上与国际***的工艺创新。凭借在装饰镀行业十多年的宝贵经验，为客户提供适合的涂层加工方案。

 真空镀膜常用在相机镜头、近视、、老花镜等矫正眼镜上使用。

 真空镀膜是在表面镀上非常薄的透明薄膜。目的是希望减少光的反射，增加透光率，抗紫外线并抑低耀光、鬼影;不同颜色的真空镀膜，也使的成像色彩平衡的不同。此外，真空镀膜尚可延迟镜片老化、变色的时间。