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电镀工艺的分类与流程说明

真空ip电镀工艺广泛应用在国民生产的各个领域,只有认真操作才能有效节约能源、保护环境。在以下简单介绍一下有关电镀工艺的一些基本知识。电镀工艺的分类:酸性光亮铜电镀电镀镍/金电镀锡。

真空ip电镀工艺流程:浸酸→全板电镀铜→酸性除油→微蚀→浸酸→镀锡→浸酸→图形电镀铜→镀镍→浸柠檬酸→镀金。

真空镀钛技术的发展趋势详解

色泽不会变化的PVD镀膜也是镀钛的主要特点。和传统的电镀不同的是，镀膜硬度较高，同时可以避免磨檫现象的发生，无剥落情况，高度防腐，所以PVD镀膜不锈钢总是可以很广泛的被运用于众多的装饰行业

氮化钛是镀钛涂层工艺的一种，通常情况下，这种氮化钛的颜色为金色，氮化钛不仅性能优异，且它的硬度还高达2300HV，在化工、材料等行业中运用十分广泛。

重要工序工艺说明

　　1) 待镀啤件: 真空电镀对啤件要求特别高,如:

　　a) 要求啤件表面清洁,无油渍﹑污渍.

　　b) 要求啤件表面粗糙度尽可能低.

　　c) 啤件内应力要尽可能低﹐内外转角要倒圆角﹒啤塑时要用较低的注射压力﹐较高的

　　模温﹑料温﹐以及尽可能慢的注射速度﹒

　　d) 啤件外型应利于获得均匀的镀层﹐如较大平面中间要微突起(突起度约 0.1~0.15mm/cm)

　　e) 啤件壁厚要适当﹐太薄的件易变形使镀层附着力不好﹐太厚的件易缩水使外观受影响﹒一般来讲﹐薄壁不宜小于0.9mm﹐厚壁不宜超过3.8mm﹒