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在具体的真空镀膜生产工作中，我们可以根据以上分析来选择适宜的蒸发镀设备和工艺方式，例如MgF2的熔点只有1261℃，考虑到熔点低如选用电子束蒸镀很难控制预蒸镀时间和电流，容易蒸镀不均匀且产生残留原料，原料也易受坩埚的污染。因而更适合使用热电阻蒸镀的方式，可以调节电流来充分预蒸镀，先消除原料中的杂质，避免直接蒸镀原料受热不均导致的喷溅，进而能够保证蒸镀的稳定性和均匀性。

真空镀膜技术是气相物理沉积的方法之一，也叫真空电镀。是在真空条件下，用蒸发器加热镀膜材料使之升华，蒸发粒子流直接射向基体，在基体表面沉积形成固体薄膜。pvd真空镀膜报价

真空镀膜是不采用溶液或电能液而制备薄膜的一种干式镀膜方法。真空镀膜工艺除了对基材起到保护作用外还赋予基材不同的外观效果以此来丰富人们的审美。真空电镀作为真空镀膜工艺之一被广泛应用于诸多领域，而我们化妆品外包装行业也是此工艺的应用和推广者之一。

真空镀膜技术主要包括物理气相沉积（PVD）技术和化学气相沉积（CVD）技术。上面提到的蒸镀、溅射镀和离子镀等都属于PVD，其基本原理可概括为：镀料的气化→镀料原子、分子或离子的迁移→镀料原子、分子或离子在基体上沉积。化学气相沉积可概括为：形成挥发性物质→把上述物质转移到沉积区域→在固体上产生化学反应并产生固态物质。