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深圳pvd真空镀膜厂家常用解决方案 东莞市泰坦金属制品

发布时间:2022-03-27 03:12:00        作者:泰坦金属







离子镀:正离子被基片台负电压加速打到基片表面。未电离的中性原子(约占蒸发料的95%)也沉积在基片或真空室壁表面。电场对离化的蒸气分子的加速作用(离子能量约几百~几千电子伏)和离子对基片的溅射清洗作用,使膜层附着强度大大提高。离子镀工艺综合了蒸发(高沉积速率)与溅射(良好的膜层附着力)工艺的特点,并有很好的绕射性,可为形状复杂的工件镀膜。



真空镀膜工艺技术的不断发展,也推动了真空镀膜设备的不断更新,真可谓是一代工艺、一代设备,而各类新的真空镀膜设备的出现,又为***、复杂的工艺应用于工业化生产提供了可靠的保证。pvd真空镀膜厂家

PVD真空镀膜具有的附着力和耐久力 – 可以折弯90度以上不发生裂化或者剥落。其它的技术,包括电镀,喷涂等都不能与其相比。任何能够想象出的设计图案都可以蚀刻出来/在内装修或者室外装修都可以使用,、抗腐蚀能力强。


真空镀膜材料与湿式镀膜材料的区别:塑料薄膜采用真空镀的方法加镀铝等金属膜,再进行染色,即可得到用于纺织工业中的金银丝等制品,或用于包装工业中的装饰品。请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点?两者的不同点是:PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定。



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